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Atomic Layer Deposition of AlF3 Using Trimethylaluminum and Hydrogen Fluoride | The Journal of Physical Chemistry C
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商品詳細情報
| 管理番号 |
新品 ：6658523790
中古 ：6658523790-1 |
メーカー | 4e77745df412 | 発売日 | 2025-03-30 21:58 | 定価 | 34000円 | ||
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| カテゴリ | |||||||||
Atomic Layer Deposition of AlF3 Using Trimethylaluminum and Hydrogen Fluoride | The Journal of Physical Chemistry C
Atomic Layer Deposition of AlF3 Using Trimethylaluminum and Hydrogen Fluoride | The Journal of Physical Chemistry C,Frontiers | MicroRNA-505, Suppressed by Oncogenic Long Non-coding RNA LINC01448, Acts as a Novel Suppressor of Glycolysis and Tumor Progression Through Inhibiting HK2 Expression in Pancreatic Cancer,Nanomaterials with enzyme-like characteristics (nanozymes): next-generation artificial enzymes (II) - Chemical Society Reviews (RSC Publishing) DOI:10.1039/C8CS00457A,Atomic Layer Deposition of AlF3 Using Trimethylaluminum and Hydrogen Fluoride | The Journal of Physical Chemistry C,Full article: RelB/p52 NF-κB Complexes Rescue an Early Delay in Mammary Gland Development in Transgenic Mice with Targeted Superrepressor IκB-α Expression and Promote Carcinogenesis of the Mammary Gland
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